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高真空喷金喷碳镀膜仪
高真空喷金喷碳镀膜仪
仪器编号
WCMNF-2019-D006
规格
生产厂家
Quorum
型号
Q150T ES Plus
制造国家
英国
分类号
120302
放置地点
云谷校区 E10-101
出厂日期
2020-08-31
购置日期
2020-08-31
入网日期
2020-08-31

主要规格及技术指标

"高真空喷金喷碳镀膜仪集成了喷金和蒸镀碳膜两种功能,其主要性能指如下:
1. 溅射靶材:高分辨率精细镀层,标配直径57mm圆片铬靶1块,另配有铂靶一块。
2. 溅射电流:0-150mA连续可调;200-400V低电压恒流冷溅射方式,以便适合温度敏感样品镀膜。
3. 溅射时间:可预设溅射时间;一次真空条件下总溅射时间长达60分钟。
4. 溅射用工作气体:高纯氩气。
5. 蒸发电流:1-70安培,采用直流电源蒸发;标配直径3.05mm碳棒蒸发头,具有脉冲和斜坡两种蒸发模式,可用于高真空碳膜镀制。
6. 膜厚监控功能:内置膜厚检测仪,达到预设厚度后,镀膜程序自动停止。显示精度0.1nm。 7. 真空系统:前级机械泵+涡轮分子泵;腔室真空度可达5*10-5mbar,溅射工作真空范围:5 x 10-3 到5 x 10-1mbar。
"

主要功能及特色

可用于普通扫描电镜(SEM)镀膜制样、高分辨率场发射扫描电镜(FE-SEM)镀膜制样和材料科研领域的镀膜。亦可作为SEM/EDS蒸镀碳导电膜。

主要附件及配置

公告名称 公告内容 发布日期