仪器列表
主要规格及技术指标
1. 测量光谱范围为210nm到2500nm；
2. 210~1000nm光谱分辨率优于2.5nm FWHM，测试间隔1nm，1000~2500nm光谱分辨率优于15nm FWHM，测试间隔6nm；
3. 全光谱采集采用Si和InGaAs组合的CCD阵列检测，全光谱采集速率不慢于10sec；
4. 入射角度范围至少从45度到90度自动调整，精度+/-0.02度，重复性优于0.01度；
5. X-Y-Z马达驱动自动样品台，样品台200mm直径，样品台能够真空吸附衬底；X-Y两向马达用于2D样品表面扫描，Z向马达用于光路自动聚焦和准直，支持自动校准光路，自动优化信号强度；
6. 自动准直透镜和光学显微镜，配置CCD摄像头用于样品表面测量微区的寻找和定位；
7. 具备微光斑功能，微光斑直径150um；
8. 可以进行样品表面多点的面扫描，并且能够根据面扫描结果显示2D厚度/折射率均匀性分布图；
9. 提供材料的光学数据库和现成的介质色散模型用于建模和拟合，支持用户自行建立色散模型，支持多层膜拟合，支持渐变结构拟合，支持多角度拟合等；
10. 要求高的设备精度，其中Psi的精度至少为45度+/-0.03度，Delta的精度至少为0度+/-0.08度；
主要功能及特色
椭偏仪是一种探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量仪器。已知入射光的偏振态，偏振光在薄膜上下表面被反射，测量得到反射光的偏振态、幅度、相位，拟合得出薄膜的厚度、粗糙度、孔隙率，以及折射率、消光系数、反射率、禁带、电阻等光学和电学信息。
在光学器件或者光电器件的研究中，通常需要生长单层或者多层薄膜，采用椭偏光谱测量可以获得薄膜的厚度和光学参数，以确定所生长的薄膜是否满足光学器件设计的要求；在微电子器件的研究中，通常需要生长介质薄膜，如高介电常数或者低介电常数薄膜，或者一些常规的介质薄膜，采用椭偏光谱测量，可以获得薄膜的厚度、折射率和消光系数，从而得到介电常数等信息。
主要附件及配置
无
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