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激光分子束外延系统
激光分子束外延系统
仪器编号
LHA19090038
规格
生产厂家
Pascal
型号
PAC-LMBE
制造国家
日本
分类号
120399
放置地点
云谷校区 E10-B107
出厂日期
2019-09-30
购置日期
2019-09-30
入网日期
2019-11-05

主要规格及技术指标

1、激光二极管基板加热系统,最高温度1100℃,温度精度不低于+/-1℃,可加热最大样品10*10mm;
2、双轴线性掩模系统,采用电机驱动,移动精度好于100μm;
3、最高工作气压20Pa的二级差分RHEED ;
4、6个1英寸靶位(公转+自转);
5、全自动蒸镀/掩模控制系统;

主要功能及特色

具有差分RHEED,可以实时监测氧化物薄膜的制备过程;可以通过组合式掩模实现多元组合薄膜的高通量制备。
PLD技术具有巨大的优点,研究者不断探究PLD能够沉积薄膜材料的种类。现在,PLD几乎可以制备现有的各种薄膜材料。目前,该技术在薄膜材料方面的研究主要集中在以下几个方面。1.超导薄膜;2.金刚石和类金刚石薄膜;3.巨磁电阻薄膜;4.铁电、压电和光电薄膜。
可提供服务:1.PLD技术培训,以生长SrTiO3薄膜为例,通过RHEED观察到10次以上的震荡;2.常规薄膜的制备;3.特殊材料的生长工艺参数开发;

主要附件及配置

二级差分RHEED
双轴线性掩模系统

公告名称 公告内容 发布日期